退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺，其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中，例如氧化，或者可以自己处理。退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成的。退火炉是节能型周期式作业炉，超节能结构，采用纤维结构，节电60%。
优点：
1、使用方便，习惯生产环境；
2、炉膛内升温敏捷且各段温度均匀；
3、炉体大修期确保五年以上，且炉门、烧嘴等易损部件维修方便。
缺点
1、设备耗油量大，效率低，环境污染严重；
2、由推钢轨道等引起的毛病多，维修困难，影响了生产；
3、自动化控制程度低，废品率高，一般在12%摆布。
改进措施：
改造后退火炉的炉温分为三个区域。在此期间，推料器将工件推到炉的I区-加热区。两侧墙上有四个交错的燃烧器。轨道由耐火砖制成的拱支撑，因此工件可以在两侧加热。然后，有第二区和第三区——恒温区。四个燃烧器在同一高度的两侧墙壁上交错排列。八个燃烧器均为低压涡流燃烧器。在I区和II区之间设置间隔梁，在炉膛前后顶部设置两台复合金属换热器。两侧炉墙及炉底为砖结构，炉顶为耐火纤维毡，选用高压风机提供助燃风和引风排烟。燃气母管和空气母管设有调节阀和流量孔板，引射器空气母管也设有调节阀。配备一套领先的微机控制系统、显示仪表和保护设备。
